ASML, EUV 광원 기술 혁신으로 2030년 칩 생산량 50% 향상 전망

✅ ASML 연구진: 칩 제조 장비 광원 출력 대폭 향상 방법 발견

✅ 목표: 2030년까지 칩 생산량 최대 50% 증대

✅ ASML 극자외선(EUV) 광원 수석 기술 책임자 마이클 퍼비스: "단기적 시연용 속임수 아님. 고객의 모든 실제 요구 충족하는 1,000와트 전력 시스템 안정적 생산 가능"

✅ 장소: 캘리포니아 샌디에이고 인근 ASML 시설